یکی از روشهای رسوب گذاری خلاء میباشد که میتواند برای تولید لایه های نازک و پوششها استفاده شود. PVD با فرایندی که در آن ماده از یک فاز چگالنده به یک فاز بخار و سپس به فاز چگال نازک تبدیل میشود، مشخص میشود.
فرایند نیتروژن دهی پلاسمایی، یکی از فرایندهای مهندسی سطح که در آن امکان سخت گردانی سطح قطعه فراهم می شود. این فرایند در دمای زیر 500 درجه سانتیگراد انجام شده و بدون مشاهده هیچ گونه اعوجاجی سختی سطح را تا دو برابر افزایش خواهد داد. لذا در این مقاله ضمن معرفی فرایند نیتروژن دهی، به مزایای فرایند نیتروژن دهی پلاسمایی پرداخته شده است:
فناوری پوشش دهی به روش رسوبگذاری فیزیکی از فاز بخار (PVD) یکی از روشهای متداول برای پوشش دهی سطوح قطعات و ابزارها می باشد. در این فناوری، امکان ایجاد لایه نازک سرامیکی و سخت بر روی قطعه موردنظر وجود دارد تا آنرا در برابر شرایط محیطی مانند خوردگی، سایش و فرسایش حفظ نماید. در ذیل کلیاتی کوتاه درباره این روش، مزایا و معایب آن آورده شده است: